Saya yakin setiap orang mempunyai pengetahuan tentang tujuan pelapisan. Dia melewati sistem pelapisan. Target pelapisan keras kini menjadi sesuatu yang kami pahami. Fase terakhir dirangkum untuk semua orang oleh editor.
Desain komposisi target, transformasi struktur kristal target, persiapan target, peningkatan proses, dan optimasi perilaku sputtering target adalah empat bidang utama yang diminati untuk penelitian mengenai target pelapisan untuk pelapis keras. Hari ini, kita akan berkonsentrasi pada optimasi perilaku sputtering target, tahap akhir dari proses pelapisan lapisan keras.
Pekerjaan target dalam proses pelapisan harus menjadi satu-satunya fokus penelitian target. Target ditempatkan di ruang vakum selama proses persiapan pelapisan dengan keadaan plasma yang sangat kompleks, menyebabkan logam target terkikis. Plasma berdampak pada lintasan atom. Untuk menjaga target dalam kondisi stabil dan baik selama konstruksi, sangat penting untuk mengoptimalkan proses pelapisan. Laju erosi target dan hilangnya atom sputtering selama perjalanan atom sputtering ke substrat selama proses pelapisan sputtering magnetron dari target paduan.
Kepadatan arus ion dan target peledakan memiliki pengaruh paling besar terhadap hasil sputtering target. Hilangnya sudut dan hilangnya hamburan adalah dua jenis energi ion utama, yang menyebabkan hilangnya atom. Kepadatan dan energi partikel yang menyerang target dapat diubah dengan mengubah arus target. Keracunan target dapat dibuat lebih efektif dengan mengatur tekanan parsial nitrogen. Laju perpindahan atom logam ke substrat dapat dikontrol secara efisien dengan menyesuaikan bias substrat. Untuk menyiapkan lapisan dengan kualitas lebih tinggi, bahan target dapat dibuat agar lebih sesuai dengan lingkungan ruang vakum pelapisan dengan mengatur parameter proses.
Kita dapat mengambil manfaat dari fakta bahwa pertumbuhan pesat industri elektronik telah memicu kemajuan signifikan di sejumlah bisnis yang berdekatan. Kemajuan ilmu pengetahuan dan teknologi didorong oleh perkembangan zaman. Tujuan pelapisan keras adalah salah satu pemenang utama, bersama dengan kami.
