1. Menggunakan magnetron untuk menggerutu
Ada tiga jenis sputtering magnetron: frekuensi radio, frekuensi menengah, dan sputtering DC.
A. Kepadatan film deposisi rendah dan catu daya sputtering DC tidak mahal. Biasanya, baterai fototermal dan film tipis dalam negeri memilih untuk menggunakan teknik ini karena memerlukan sedikit energi dan menggunakan logam konduktif sebagai target sputtering.
B. Energi sputtering RF agak tinggi. Target konduktif atau target non-konduktif dapat digunakan sebagai target sputtering.
C. Target logam atau keramik dapat digunakan sebagai target sputtering frekuensi menengah.

2. Klasifikasi dan penggunaan target sputtering
Target sputtering tersedia dalam berbagai bentuk dan ukuran, dan tidak semuanya dikategorikan dengan cara yang sama. Mereka dapat dikategorikan menjadi target panjang, target persegi, dan target bulat berdasarkan bentuknya, dan menjadi target logam, target paduan, dan target yang terbuat dari senyawa keramik berdasarkan komposisi. Hal ini dapat dipisahkan menjadi target keramik yang dihubungkan dengan semikonduktor, target keramik untuk media perekam, target keramik untuk tampilan, dll. berdasarkan berbagai domain aplikasi. Sektor elektronik dan informasi, termasuk penyimpanan informasi, adalah pengguna utama target sputtering. Hard disk, kepala magnetik, disk optik, dan produk film tipis terkait lainnya dibuat dalam bisnis ini menggunakan target sputtering.

Saat ini.Pasar untuk target keramik medium rekaman mengalami peningkatan permintaan karena pertumbuhan industri informasi yang sedang berlangsung, dan penelitian dan pengembangan target medium rekaman kini mendapat banyak perhatian media.