Menyemburkan Target Tantalum

Bahan target adalah bahan target untuk pemboman partikel energi bermuatan berkecepatan tinggi. Dengan mengganti bahan target yang berbeda (seperti aluminium, tembaga, baja tahan karat, titanium, target nikel, dll.), sistem film yang berbeda dapat diperoleh (seperti film paduan anti korosi yang super keras, tahan aus, dll.). Target sputtering Tantalum terutama digunakan dalam industri elektronik dan informasi, seperti sirkuit terpadu, penyimpanan informasi, layar kristal cair, memori laser, perangkat kontrol elektronik, dll.; itu juga bisa digunakan di bidang pelapisan kaca; itu juga dapat diterapkan pada bahan tahan aus, ketahanan korosi suhu tinggi, perlengkapan dekoratif bermutu tinggi, dan industri lainnya.

Kirim permintaan

perkenalan produk

Target tantalum yang tergagap dapat dibagi menjadi target persegi, target bulat, dan target berbentuk sesuai dengan bentuknya. Sputtering magnetron adalah metode pelapisan fase uap fisik baru yang memiliki banyak keunggulan dibandingkan metode pelapisan evaporatif dalam banyak hal. Sebagai teknologi yang matang, sputtering magnetron telah diterapkan di banyak bidang. Ia menggunakan ion-ion yang dihasilkan oleh sumber ion, yang dipercepat dan dikumpulkan dalam ruang hampa untuk membentuk berkas ion energi berkecepatan tinggi yang membombardir permukaan padat, di mana ion dan atom pada permukaan padat bertukar energi kinetik, menyebabkan atom-atom menyala. permukaan padat meninggalkan padatan dan mengendap di permukaan substrat.

Berbagai jenis bahan film tipis tergagap banyak digunakan untuk sirkuit terpadu semikonduktor, fotovoltaik surya, media perekam, layar panel datar, dan pelapis permukaan benda kerja. Target tembaga - lapisan konduktif, bahan tembaga dengan kemurnian tinggi digunakan dalam jumlah besar sebagai bahan kabel di bagian teknologi sub 110 nm karena resistansinya yang sangat rendah, yang sangat efektif terhadap peningkatan integrasi chip.

Detail Produk

Merek	Logam Yusheng
Nama Produk	Target Sputtering Tantalum
Kemurnian	99.95%
Kepadatan	95-99%
Spesifikasi	Panjang<300 mm ; Width<300 mm Diameter<300 mm; Thickness<1 mm
Toleransi	±0.1mm
Permukaan	3.2Ra
MOQ	1KG

Target Tantalum Sputtering Kami

Baoji Yusheng Logam Technology Co, Ltd.

Aplikasi target Tantalum

Kapasitor
Sekitar setengah dari tantalum yang dikonsumsi setiap tahun digunakan dalam industri elektronik, terutama sebagai bubuk dan kabel kapasitor. Kapasitor Tantalum disukai dalam aplikasi kelas atas yang peka terhadap ruang seperti telekomunikasi, penyimpanan data, dan perangkat medis implan.

Bilah turbin mesin
Titik leleh logam yang tinggi dan ketahanan terhadap korosi membuatnya cocok untuk aplikasi paduan. Tantalum juga digunakan sebagai bahan tambahan pada paduan suhu tinggi berbahan dasar nikel, dan aplikasi utamanya adalah bilah turbin untuk mesin pesawat terbang dan turbin gas di darat.

Peralatan Pengolahan Kimia
Ketahanan korosi Tantalum yang tinggi dan ketahanan suhu tinggi menjadikan logam ini bahan struktural yang ideal untuk wadah, pipa, katup, dan lapisan penukar panas di industri kimia dan farmasi.

Seri Paduan Target Tantalum
Selain target tantalum, kami juga dapat menyediakan target sputtering seperti paduan silikon tantalum, paduan aluminium tantalum, paduan tungsten tantalum, paduan tantalum nikel, paduan tantalum kobalt zirkonium, tantalum nitrida, tantalum karbida, tantalum borida, tantalum pentoksida, dll.

Pertunjukan Produk

product-4776-1398

product-4776-1194

product-4776-1182

Tampilan peralatan

product-1477-390

product-1447-391

product-1446-408

Jika proyek Anda membutuhkan target tantalum atau bahan kinerja paduan tantalum lainnya, silakan hubungi kami dan kami akan memberi Anda penawaran dan menjawab pertanyaan Anda dalam waktu 24 jam!