Bahan sasarannya memiliki pasar yang luas, kegunaan yang beragam, dan masa depan yang menjanjikan. Mari kita bahas dengan cepat persyaratan performa utama material target agar Anda dapat memahami performa material dengan lebih baik. Saya sangat berharap ini bermanfaat bagi Anda.
Kemurnian: Karena kemurnian target memiliki dampak yang signifikan terhadap kinerja film, kemurnian adalah salah satu ukuran kinerja utama target. Namun, kriteria kemurnian bahan target berbeda dalam penerapan praktisnya. Misalnya, ukuran silikon wafer telah meningkat dari 6′′, 8′′ menjadi 12′′ karena pesatnya ekspansi industri mikroelektronik, dan lebar kabel telah berubah dari 0.5um menjadi 0.25um, 0 .18um, atau bahkan 0.13um, sebelumnya 99. Target kemurnian 995% dapat memenuhi persyaratan prosedur 0.35umIC, sedangkan 99 diperlukan untuk menyiapkan 0.18um line.99.9999% atau bahkan 999%.
Kandungan pengotor: Sumber utama polusi pada film yang diendapkan adalah pengotor pada padatan target dan oksigen serta uap air dalam pori-pori. Target yang bervariasi karena berbagai alasan memerlukan kandungan pengotor yang bervariasi. Misalnya, sektor semikonduktor memiliki standar khusus untuk konsentrasi unsur radioaktif dan logam alkali pada target yang terbuat dari aluminium murni dan paduan aluminium.
Kepadatan: Bahan target biasanya diharuskan memiliki kepadatan yang lebih tinggi untuk mengurangi pori-pori padatan dan meningkatkan fungsi film yang tergagap. Karakteristik listrik dan optik film juga dipengaruhi oleh kepadatan bahan target, selain laju sputtering. Kinerja film meningkat seiring dengan kepadatan target. Kemampuan bahan target untuk bertahan dari tekanan panas selama proses sputtering juga ditingkatkan dengan meningkatkan kepadatan dan kekuatannya. Salah satu ukuran kinerja utama target adalah kepadatan.
