Nama: tantalum (target TA)
Jenis: Target pesawat, target multi-arc, target bulat, target berputar
Ukuran biji -bijian: 45 mikron
Kemurnian: 99,99%, 99,99%
Kekasaran permukaan: ras 0. 8um (permukaan sputtering), ras6.4um (untuk metalisasi)
Ukuran target φ25, 3 0, 40, 50.5, 60, 76.2, 80, 100, 101.6mm, t: 0. 2-10 mm, dll.
Peralatan yang berlaku untuk target tantalum: Berlaku untuk berbagai sistem sputtering target tunggal, sistem sputtering multi-target, sistem sputtering ion dan peralatan sputter magnetron lainnya dari Huachuang Utara, Zhongke Keyi, Shenyang Keyi, Teknologi Elektronik China, Institut Microelectronics, Jinsheng Mikro, Micro-Nano-Nano, Teknologi Microelectronics, Jinsheng Nano-Nano, Microon, Teknologi Microelectronics, Jinsheng Micro-Nano, Mikro, Microu, Teknik Dento Dento, dll.
Area Aplikasi Target Tantalum: Aplikasi Penelitian Produksi dan Ilmiah, Optik, Pemrosesan Mikro-Nano, Perangkat dan Industri Lainnya, banyak digunakan dalam chip semikonduktor, lampu surya
Jenis: Target datar, target multi-arc, target bulat, target berputar, tampilan datar, lapisan khusus dan produk pelapis lainnya.
Hubungi: Kelly
Email: kd@tantalumysjs.com
Whatsapp\/skype: +86 13379388917
Telepon\/WeChat: +86 13379388917
Fax: 0917-3139100
Kode Pos: 721013
Web: www.tantalumysjs.com
Tambahkan: Zona Industri Desa Wenquan, Zona Pengembangan Gaoxin, Kota Baoji, Provinsi Shaanxi, Cina
