Target Pemercikan Molibdenum

Tujuan untuk Target Molybdenum Sputtering
Molibdenum logam abu-abu keperakan memiliki kekerasan Mohs 5,5. Ia memiliki titik leleh 4.753 derajat F/2.623 derajat. Dari unsur-unsur alami, hanya tantalum, osmium, renium, tungsten, dan karbon yang memiliki titik leleh lebih tinggi. Molibdenum mulai mengoksidasi lemah sekitar 300 derajat (572 derajat F). Di antara logam yang umum digunakan, ia memiliki salah satu koefisien ekspansi termal terendah. Ketika diameter kabel molibdenum dikurangi dari 50-100 nm menjadi 10 nm, kekuatan tariknya meningkat hampir tiga kali lipat, dari sekitar 10 hingga 30 GPa.

Lebih Detail tentang Molibdenum Sputtering Target

Aplikasi: Layar Panel Datar, Semikonduktor, dan Elektronik
Fitur: Biaya rendah; kemurnian tinggi; biji-bijian yang dimurnikan dengan struktur mikro yang direkayasa; kelas semikonduktor

Metode Pembuatan

1. Penyulingan
Meleleh dan menuang dalam proses elektrolitik tiga lapis
Penyempurnaan butir, pengecoran semi-kontinyu, dan tungku hambatan listrik
Perawatan termomekanis, pembersihan akhir, dan pembersihan vakum sebelum pengemasan
perlindungan terhadap racun lingkungan
Perlindungan selama pengiriman

2. Pilihan
Layanan ikatan target sputtering; kemurnian minimal 99,95 persen; ukuran yang lebih kecil juga ditawarkan untuk aplikasi R&D

Semua produk target Yusheng Metals dirancang khusus untuk beroperasi dengan andal dalam proses pengendapan film tipis. Proses manufaktur memastikan kemurnian tinggi, partikel halus dan seragam dari target. Kami menawarkan berbagai pilihan dalam berbagai kemurnian dan bentuk.

Tag populer: target sputtering molibdenum, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, beli, harga, kutipan, kualitas, untuk dijual, tersedia